利用微波等离子体化学气相淀积法在硅基片上合成硼掺杂金刚石薄膜。B2O3从1000ppm到5000ppm的不同浓度对场发射性能影响的研究。通过扫描电镜和拉曼光谱表征了薄膜的表面形貌和质量。通过SEM显示随着B2O3浓度的增加,纳米金刚石颗粒的表面形貌从表面覆盖纳米颗粒的方面微晶到菜花形。说明少量的硼有利于提高金刚石膜的质量,随着硼浓度进一步升高,由于硼掺入引起的晶格畸变而导致品质下降。