<正>(接2015年第5期第80页)综合分析图28和图29可以看出,在高速磁控溅射中,靶上施加的产生放电的溅射电压,使离子获得的能量,能产生最大的功率密度,而且在这一电压范围内,便于输入较大的功率。靶发热、辐射和二次电子发射等"无用"功在总输入功率中所占比例很小。3低能溅射由于靶上施加的阴极电压低,等离子体被磁场束缚在阴极附近的空间中,从而抑制了高能带电粒子向基片一侧入射。因此,由带电粒子轰击
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