摘要
以化学气相沉积(CVD)方法在蓝宝石衬底上沉积一层较厚的MoS2膜作为前驱体,使用物理气相传输(PVT)方法制备了层状MoS2薄膜。用光学显微镜、扫描电子显微镜、喇曼光谱和光致发光光谱对制备的层状MoS2膜表面形貌、层数、光学特性进行了研究。分析了源和衬底距离对MoS2薄膜沉积的影响,发现距离较近有利于成核概率增大,形成连续膜,但是易引入不稳定因素导致立体生长的MoS2纳米片,同时观察到出现树枝状生长,这是由于前驱体质量过剩引起的部分晶面生长速率过高导致的。喇曼光谱测试表明,薄膜大部分为单层膜和双层膜,有少量的多层膜,膜的光致发光光谱强度与层数有关,单层膜光致发光光谱强度最强。
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单位河北工业大学; 电子信息工程学院; 中国电子科技集团公司第四十六研究所