Nb/Al-AlOx/Nb约瑟夫森结构成的低温超导器件有着广泛应用，高质量的S-I-S约瑟夫森结制备的关键之一在于制备高质量的三层膜。三层膜的质量可由许多属性参数影响，比如剩余电阻比R.R.R、超导转变温度Tc、表面粗糙度、应力、铝膜厚度等等。通过对薄膜的溅射沉积条件与上述参数进行分析研究，确定最佳的生长条件。调节不同的氧化工艺条件，可以获得约瑟夫森结的不同临界电流密度。
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