中等口径光学非球面的高效研抛技术

作者：顾敏芝; 何良芳

来源：光学仪器, 2005, (01): 22-27.

• 非球面抛光
• 小磨头修正抛光
• 特征去除函数 polishing aspheric surface
• corrective polishing with small-tools
• removal function

介绍了一种弹性模抛光与小磨头修正抛光相结合的两步研抛法实现中等口径光学非球面表面的快速抛光。利用弹性模预抛光来保证小工具抛光模型的准确稳定,并采用补偿的方法减小弹性模抛光对面形精度的破坏作用。然后利用优化的小磨头修正残留的表面误差来提高抛光精度。应用上述方法加工非球面,在较短的抛光周期中,获得的面形P-V精度达0.35μm。