光引发活性ATRP聚合制备纳米二氧化硅超疏水表面

作者：唐高涵; 梁红波^*; 朱春芳

来源：南昌航空大学学报(自然科学版), 2020, 34(01): 50-57.

DOI：10.3969/j.issn.1001-4926.2020.01.008

• 紫外光引发
• 原子转移自由基聚合
• 纳米二氧化硅
• 超疏水

利用3-氨基丙基三乙氧基硅烷(KH-550)和2-溴代异丁酰溴(BIB)对纳米二氧化硅进行改性制备了原子转移自由基聚合(ATRP)纳米活性中心,采用紫外光引发丙烯酸十二氟庚酯活性聚合接枝在纳米二氧化硅表面并沉积在玻璃基材表面制备了超疏水表面。通过热失重分析纳米活性中心的接枝率,采用水接触角研究了纳米活性中心含量和光聚合时间对超疏水性能的影响。结果表明:随着纳米二氧化硅活性中心浓度增加,工艺稳定性变好,但光聚合沉积形成超疏水表面所需的时间要长。纳米二氧化硅活性中心浓度为3.63μmol/g为最佳,经40 min光引发活性聚合后,二氧化硅表面含氟聚合物的接枝率达到34.12%,接触角达到164°,表面微纳结构致密。

• 单位
  南昌航空大学