射频磁控溅射法制备TiSiCN纳米复合膜的微观结构和力学性能研究

作者：薛增辉; 李伟; 卢建富; 刘平; 马凤仓; 刘新宽; 陈小红; 何代华

来源：功能材料, 2015, 46(07): 7113-7117.

• TiSiCN纳米复合膜
• 微观结构
• 力学性能
• 共格外延生长

采用射频磁控溅射工艺在Si基底上制备TiSiCN纳米复合膜,固定靶材中的Ti含量,通过改变Si和C的含量比沉积得到一系列薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线光电子能谱(XPS)和纳米压痕仪研究了不同Si/C含量比对TiSiCN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响。结果表明,Si/C含量比对TiSiCN纳米复合膜的微观结构和硬度具有显著影响,当Si/C含量比为Si2C2时制得薄膜的微观结构为晶化的界面相(SiNx+C)与其包裹的TiN纳米晶粒共格外延生长,薄膜硬度达到最高值46GPa。

• 单位
  上海理工大学