为了探究曲轴抛光中磨料振动对抛光精度及抛光效率的影响,对磨粒振动进行了力学分析,确定了磨料的径向运动与抛光精度及抛光效率的关系。通过UG后处理模块进行了模拟仿真及干涉实验,并改进了一台传统的曲轴抛光机使其能够完成磨料抛光实验。UG运动仿真及抛光实验结果表明,在改进后的曲轴抛光机中增加磨粒径向运动不会产生运动干涉,同时能够大幅度提高曲轴抛光效率及抛光精度。添加磨料振动后的曲轴抛光表面粗糙度可降至0.5μm,抛光效率是未添加磨料振动抛光的三倍以上。
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