在Ni基体上电沉积纯Ni镀层和Ni-CeO2复合镀层并对其进行620℃低温渗铝,制备了无CeO2和CeO2改性的铝化物涂层。将以上2种涂层在1000℃下氧化,研究CeO2颗粒的加入对氧化膜的生长速率和粘附性能的影响。结果表明,在δ-Ni2Al3涂层中加入纳米CeO2颗粒可以推迟一层完整α-Al2O3膜的形成时间,降低氧化膜的生长速率。此外,纳米CeO2颗粒的加入提高了氧化膜的粘附性。原因是与没有CeO2掺杂的涂层相比,CeO2改性铝化物涂层在氧化膜/涂层界面上形成的空洞尺寸较小。
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