碳化硼微粉表面制备Ni-W镀层的工艺探索

作者：常锐

来源：运城学院学报, 2019, 37(06): 5-8.

DOI：10.15967/j.cnki.cn14-1316/g4.2019.06.002

• 碳化硼
• 化学镀
• Ni-W镀层,工艺

本文通过化学镀对粒径为20μm的碳化硼微粉表面制备Ni-W镀层的工艺探索,结果表明最佳工艺参数为:硫酸镍25 g/L,钨酸钠12. 5 g/L,焦磷酸钾50 g/L,焦磷酸钠25 g/L,十二烷基苯硫酸钠0. 1 g/L; PH值为12,镀覆温度为80℃,镀覆时间为90 min。通过扫描电子显微观察发现,该条件下制备的镀层均匀严实地包覆在碳化硼微粉的表面,二者结合紧密,且镀层表面无裂纹。采用能谱分析仪对镀覆后的碳化硼表面进行分析发现镀层中含有元素Ni和W,在碳化硼表面成功实现了Ni-W合金镀层的制备。

• 单位
  运城学院