响应面法在石材抛光工艺参数优化中的应用

作者：舒服华

来源：石材, 2016, (12): 27-56.

DOI：10.14030/j.cnki.scaa.2016.0279

• 花岗岩
• 抛光
• 工艺参数
• 响应面
• 多目标
• 优化

通过响应面法建立了花岗岩抛光工艺参数与抛光性能指标之间的函数关系,并对花岗岩抛光单工艺目标和综合工艺目标进行了优化。单工艺优化目标结果为:最大光泽度86.975、最小磨石磨损量6.7454mg、最小抛光不均匀度3.8299%。综合工艺目标下最佳工艺参数为抛光压力0.13Mpa,抛光盘转速522.62rpm,抛光剂给量26.410g/s。

• 单位
  武汉理工大学