光伏硅片无磷清洗剂的配方设计与应用

作者：王成信

来源：化学工程师, 2023, 37(02): 85-88.

DOI：10.16247/j.cnki.23-1171/tq.20230285

• 硅片
• 无磷
• 复配
• 腐蚀
• 耐久性

太阳能级硅片在金刚线切割和打磨过程中会受到严重沾污，需要采用物理或化学方法去除其表面的污染物，以符合洁净度和表面状态的要求。为减少对硅片的过度腐蚀以及保持清洗工作液的持久性，通过正交实验，确定了表面活性剂A组分和碱剂B组分的最佳配比。表面活性剂A组分最佳配比为无磷乙二胺二邻苯基乙酸钠∶PO嵌段FMEE∶喜赫FMES∶伯烷基磺酸钠PAS∶烷基糖苷APG=7∶8∶3∶5∶3。碱剂B组分最佳配比为KOH∶Na OH∶Na2Si O3·5H2O∶Na2CO3=3∶1∶2∶2，产品环保、无磷、碱性适中，清洗时间短，对Si粉和金属氧化膜去除效果好，洗后的Si片表面光滑无凹坑、线痕等现象。