直流反应磁控溅射制备氧化铅薄膜

胡彬彬; 季振国; 袁苑; 霍丽娟; 黄伟霞

doi:10.13922/j.cnki.cjovst.2006.02.002

摘要

通过直流反应磁控溅射的方法制备了氧化铅薄膜,并通过XRD和紫外-可见光(UV-Vis)吸收谱对薄膜的晶体结构和光学性能进行了表征。我们发现,直流反应磁控溅射金属铅靶可以形成三种氧化铅薄膜,即非晶态PbO,正交晶系的-βPbO,以及四方晶系的Pb3O4。X射线衍射结果表明,衬底温度和氧气流量对薄膜的生长有很大的影响。当衬底温度小于300℃时,薄膜呈非晶状态,当衬底温度超过300℃时,薄膜开始结晶。另外,氧气流量的改变引起薄膜晶体结构的明显变化。当氧气流量较小时,薄膜为立方相结构的PbO;随着氧气流量的增加,薄膜的晶体结构发生改变,生成四方相结构的Pb3O4的薄膜。UV-Vis吸收谱测试结果表明,...

单位
硅材料国家重点实验室

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更新时间：2020-06-17 03:19

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