中科院成功研制650mm×650mm大面积光刻机

来源：军民两用技术与产品, 2015, (19): 37.

DOI：10.19385/j.cnki.1009-8119.2015.19.055

• 光刻机
• 超大面积

<正>中国科学院光电技术研究所顺利完成新一代单场超大面积光刻机(650mm×650mm)研制,并通过了用户验收,各项技术指标达到国际先进水平。其成功研制对于提升我国微细加工设备整体研制水平,促进我国单场超大面积极端微细加工技术发展具有重要的意义。新一代超大面积光刻机采用2500W大功率高压汞灯作为光源,利用离轴非球面反射镜,结合蝇眼

• 单位
  中国科学院