钛合金表面非平衡磁控溅射制备氮化钛薄膜性能研究

作者：齐峰; 王志浩; 张琦; 杨文茂; 冷永祥; 黄楠

来源：真空科学与技术学报, 2006, (5): 368-371.

DOI：10.3969/j.issn.1672-7126.2006.05.007

• 非平衡磁控溅射
• 氮化钛
• 结构
• 显微硬度
• 耐磨性

本文利用非平衡磁控溅射技术,通过改变薄膜沉积时氮气和氩气分压比(PN/PAr)和靶基距,在Si(100)和钛合金(Ti6A14V)基体上制备了氮化钛薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、HXD～1000显微硬度仪和(CSEM)销盘摩擦磨损实验机对氮化钛薄膜的晶体结构、断面形貌、显微硬度和耐磨性进行了表征.研究发现,利用非平衡磁控溅射制备出致密的氮化钛薄膜,PN/PAr较小时,

• 单位
  西南交通大学