薄膜光学常数的原位测定

作者：谢茂彬; 吴智勇; 崔恒毅; 赵新潮; 玄志一; 刘清权; 刘锋; 孙聊新; 王少伟

来源：红外与毫米波学报, 2022, (5): 888-893.

DOI：10.11972/j.issn.1001-9014.2022.05.013

• 光学常数
• 近红外
• 薄膜
• 原位
• 测定

薄膜的光学常数(折射率和消光系数)精度直接影响设计和制造的光学器件的性能.大多数光学常数的测定方法较为复杂,不能直接应用在镀膜过程中.提出了一种薄膜光学常数原位实时测量的方法,通过监测沉积材料的透射率可以快速准确地测量光学常数.测量了高吸收材料Si、低吸收材料Ta2O5和超低吸收材料SiO2的近红外光学常数,用这种方法测得光学常数分别为n=3.22,k=4.6×10-3,n=2.06,k=1.3×10-3和n=1.46,k=6.6×10-5.该方法适用于强吸收材料和弱吸收材料光学常数的测定,为在线精确测量薄膜的光学常数提供了一种有效的方法,对设计和制造高质量的光学器件具有重要意义.

• 单位
  中国科学院上海技术物理研究所; 上海师范大学; 中国科学院大学; 红外物理国家重点实验室; 上海科技大学