沉积时间对旋转喷涂法制备的NiZn铁氧体薄膜的影响

作者:王宏; 杨仕机; 冉茂君; 青豪; 余忠*; 孙科; 兰中文
来源:磁性材料及器件, 2022, 53(01): 1-6.
DOI:10.19594/j.cnki.09.19701.2022.01.001

摘要

采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响。结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高。NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度M_s增高,矫顽力H_c降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率f_r从0.32 GHz降低至0.23 GHz。但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ"/μ′)过高的问题。

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