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摘要
本实用新型涉及多弧离子镀膜设备技术领域,具体涉及了一种阴极电弧靶座,包括靶座上设有循环水冷腔室平台和靶材扣锁系统,靶座内设有由永磁体和若干个线圈组件的磁组件,线圈组件包括交替设置的导磁块和绝缘块,导磁块上缠绕线圈,其中,线圈的轴线穿过相邻的绝缘块,且线圈的轴线平行于循环水冷腔室平台。由于绝缘块处形成气隙,线圈和导磁块产生的磁场会在气隙处形成强漏磁,漏磁在平行于循环水冷腔室平台的方向的磁场强度分量高,而交替设置的导磁块和绝缘块有利于保证靶材溅射面各点的磁场大小的一致性和均匀性。
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本实用新型涉及多弧离子镀膜设备技术领域,具体涉及了一种阴极电弧靶座,包括靶座上设有循环水冷腔室平台和靶材扣锁系统,靶座内设有由永磁体和若干个线圈组件的磁组件,线圈组件包括交替设置的导磁块和绝缘块,导磁块上缠绕线圈,其中,线圈的轴线穿过相邻的绝缘块,且线圈的轴线平行于循环水冷腔室平台。由于绝缘块处形成气隙,线圈和导磁块产生的磁场会在气隙处形成强漏磁,漏磁在平行于循环水冷腔室平台的方向的磁场强度分量高,而交替设置的导磁块和绝缘块有利于保证靶材溅射面各点的磁场大小的一致性和均匀性。
