8英寸薄层P型硅外延片的均匀性控制

作者：谷鹏

来源：电子技术与软件工程, 2020, (08): 76-77.

• 薄层外延
• P型
• 集成电路
• 电阻率
• 不均匀性

本文通过单片外延炉制备薄层8英寸P/P+外延片,探索优化P/P+外延工艺的均匀性控制和缺陷控制,为8英寸及以上大尺寸的P/P+外延片产业化提供有意义的参考。