以Ⅲ类石英玻璃为研究对象,从实际试验熔制角度,探究了不同熔制气氛下石英玻璃沿径向方向上羟基的含量及分布情况,并对羟基的形成原因及稳定性进行了初步分析。结果表明,不同熔制气氛下的石英玻璃中羟基分布均呈现出中间高边缘低,中性气氛中羟基含量最低,还原气氛中羟基含量最高。停料空烧方法可改善原有氧化气氛中石英玻璃产率较低的情况,但会导致砣面表面不平整,边缘羟基含量大幅增加。不同熔制气氛下的石英玻璃经高温热处理后羟基含量趋于一致,还原气氛下的降幅最大,约55%。
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