化学沉淀法制备纳米二氧化硅

作者：郭宇; 吴红梅; 周立岱; 杜金山

来源：辽宁化工, 2005, (02): 56-57.

• 纳米二氧化硅
• 化学沉淀法
• 制备 Nano SiO2
• Chemical precipitation
• Process

以水玻璃和盐酸为原料 ,采用化学沉淀法制备纳米SiO2 。工艺条件为 :温度 4 0～ 5 0℃ ,pH值 5～ 6 ,干燥温度 110℃ ,焙烧温度 5 0 0℃ ,制得的二氧化硅粒径在 5 0～ 6 0nm ,比表面积大 ,分散性好 ,达到了工业生产的标准。

• 单位
  辽宁工业大学