沉积时间对磁控溅射法制备氮化硼薄膜相结构的影响

作者：徐洋

来源：产业与科技论坛, 2016, 15(23): 62-63.

• 氮化硼薄膜
• 沉积时间
• 红外光谱
• 相转变

利用射频磁控溅射方法,以六角氮化硼(h BN)为靶材,在单晶硅衬底上制备氮化硼(BN)薄膜,系统地研究了沉积时间对BN薄膜相结构的影响。红外光谱分析表明,随着沉积时间的增加,薄膜中h BN相含量减少,正交氮化硼(o BN)相含量增加。

• 单位
  包头师范学院