激光退火技术在半导体领域的应用

作者：李文兵; 汪于涛; 骆公序; 王丽^*

来源：应用激光, 2020, 40(06): 1099-1109.

DOI：10.14128/j.cnki.al.20204006.1099

• 激光退火
• 硅太阳能
• 平板显示
• 集成电路
• 微纳米制造

激光退火技术,以较低的热预算,可以在瞬间达到较高的退火温度,工艺过程高度可控,制程可重复性好,已经广泛应用于半导体工业界。本文将简要介绍激光退火技术早期的机理研究,以及在硅基太阳能电池,平板显示,集成电路,和微纳米制造等领域的应用。

• 单位
  上海市激光技术研究所