溅射功率和气压对CdTe薄膜结晶性的影响

作者：王国宁; 杨宇; 孔令德; 姬荣斌; **

来源：硅酸盐通报, 2007, (04): 715-719.

DOI：10.16552/j.cnki.issn1001-1625.2007.04.038

• 磁控溅射
• CdTe薄膜
• 功率
• 气压
• 结晶性

用射频磁控溅射在普通玻璃衬底上制备CdTe薄膜。采用XRD对制备出的薄膜进行分析研究;并讨论了溅射气压、溅射功率对薄膜结晶性的影响。进一步研究表明:溅射气压低时溅射功率对CdTe薄膜结晶性的影响程度比溅射气压高时要大;溅射功率低时溅射气压对CdTe薄膜结晶性的影响程度比溅射功率高时要小。并对造成上述结果的机理进行了初步的理论探讨。

• 单位
  昆明物理研究所; 云南大学