多弧离子镀中磁场控弧技术的研究进程与展望

作者：马迎慧; 张钧^*

来源：材料保护, 2019, 52(02): 107-112.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2019.02.026

• 多弧离子镀
• 电弧控制
• 磁场设计

对多弧离子镀中控弧磁场技术及其在改善弧斑运动特性方面的应用进行了介绍。以静态控弧磁场和复合动态控弧磁场为基础,对横向磁场/轴向磁场分解、锐角法则及其具体应用进行了详细分析,进而讨论了不同结构控弧磁场的优势和局限性。最后指出了控弧磁场技术目前存在的问题和今后重点研究的方向。

• 单位
  沈阳大学