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摘要
本发明属于半导体和电子器件的微纳加工的技术领域,具体涉及一种针对气相金属辅助化学刻蚀的微波辅助装置。包括微波发生装置和立方体形的刻蚀腔室,微波发生装置的下端通过波导和刻蚀腔室的上端连通；刻蚀腔室内设有方形的晶圆托盘和用于水平支撑晶圆托盘的支撑机构；晶圆托盘的中部开设有圆槽,圆槽内配合设有硅晶圆,硅晶圆的中部沉积有金属催化剂薄膜；刻蚀腔室的上端分别安装有压强传感器、浓度传感器和浓度传感器,刻蚀腔室的底部一侧设有进气阀,另一侧设有抽气阀和排气阀；因此本发明能够有效提高刻蚀速率,并根据其微波增强的均匀性和选择性,减小刻蚀结构的孔隙率,提高侧壁垂直度,对于提高金属辅助化学刻蚀速率具有重大意义。
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