在柔性电子领域，如有机薄膜太阳能电池、OLED显示、量子点显示等封装时都需要对水氧具有超高阻隔性的薄膜。针对超高水氧阻隔膜制备工艺现状，为提高阻隔膜性能指标，满足快速发展的柔性电子封装技术需求，本文分析了基底材料对水氧阻隔膜性能指标的影响，综述了超高阻隔膜叠层制备技术，为开展超高阻隔膜研究与产业开发提供依据，并对后续技术发展进行了展望。
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