CoFe_2O_4涂层对Co基非晶薄带GMI效应的影响

作者：曹柏泉; 何俊彦

来源：磁性材料及器件, 2013, (01): 10-12.

• 磁控溅射
• Co基非晶薄带
• CoFe2O4涂层
• GMI效应
• 趋肤效应 magnetron sputtering
• Co-based amorphous ribbons
• CoFe2O4 coating
• GMI effect
• skin effect

通过磁控溅射法在Co基非晶薄带(Co66Fe4NiSi15B14)上制备CoFe2O4涂层(镀膜),在75kHz～2.5MHz频率范围内观察其巨磁阻抗效应(GMI)随外加磁场的变化。实验结果显示,在Co基非晶薄带上涂覆CoFe2O4薄膜,可以提高薄带的GMI效应,并且在频率为1.2MHz时,具有CoFe2O4涂层的非晶薄带巨磁阻抗比较无涂层薄带提高了近30%。研究发现,当趋肤效应显著时材料表面粗糙度对GMI效应有较大影响。通过在Co基非晶薄带表面镀膜的方式降低样品表面粗糙度,减小表面退磁场的影响,从而提高了材料的GMI效应。

• 单位
  电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 电子科技大学