第二十讲 真空离子镀膜

作者：张以忱

来源：真空, 2019, 56(01): 77-80.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2019.01.17

• 离子镀膜
• 抗磨损
• 离子镀装置
• 离子轰击
• 基片材料
• 蒸发源

<正>(接2019年第6期第88页)7离子镀的特点及应用7.1离子镀的特点离子镀与蒸发镀、溅射镀相比的最大特点是荷能离子一边轰击基片与膜层,一边进行沉积,荷能离子的轰击作用产生一系列的效应,具体如下:1)膜/基结合力(附着力)强,膜层不易脱

• 单位
  东北大学