介质阻挡放电化学气相沉积法制备DLC薄膜研究

作者：张溪文; 徐世友; 韩高荣

来源：功能材料, 2005, (04): 555-558.

• DBD-CVD
• DLC
• 拉曼光谱 DBD-CVD
• DLC
• Raman spectra

采用介质阻挡化学气相沉积法(DBD CVD)在Si及石英衬底上、室温下成功的沉积出光滑、致密、均匀、膜基结合较好的类金刚石(DLC)薄膜,并考察了电源电压对类金刚石薄膜结构及性能的影响。拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见光谱(UV Vis)、高阻仪等测试及分析结果显示DBD CVD 法适于制备高质量硬质DLC薄膜。对DBD放电做了理论分析,结果与工艺研究的结论相符合。