不同退火温度对HfO2薄膜结构和性能的影响

作者：许宁; 赵泉; 刘伟; 霍承松; 石红春; 张树玉; 杨海

来源：硅酸盐通报, 2015, S1: 215-217.

DOI：10.16552/j.cnki.issn1001-1625.2015.s1.053

• HfO2薄膜
• 电子束蒸发
• 退火温度

采用等离子增强蒸发镀膜方法在石英玻璃上制备了HfO2薄膜,并进行了退火实验。利用X射线衍射(XRD)、纳米压入仪、紫外-可见分光光度计等分别研究了不同退火温度对HfO2薄膜表面硬度、晶体结构和光学性能的影响。结果发现:未退火的HfO2薄膜为非晶结构,退火之后,薄膜变为多晶结构,呈现出(002)晶面择优生长;随着退火温度的增加,膜层的表面硬度有明显提高;退火后,可见光波段和近红外波段透过率没有明显的变化。

• 单位
  中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所