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摘要
通过常压化学气相沉积法(APCVD)在铜箔表面制备了高质量的石墨烯。采用光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨率透射电镜(HRTEM)、拉曼光谱仪、紫外—可见光谱仪(UV-vis)和X射线光电子能谱仪(XPS)对石墨烯的形貌和结构进行表征,采用极化曲线和电化学阻抗谱对样品的抗腐蚀性能进行测试。结果表明,在1 000℃下,反应5、15 min,分别可以获得单层和三层石墨烯。高质量、连续的三层石墨烯可以有效提高铜箔在空气中的抗氧化性能及其在0.1 mol/L氯化钠溶液中的抗电化学腐蚀性能,但单层石墨烯不能确保铜箔完全不被腐蚀。三层石墨烯对铜的保护程度明显优于单层石墨烯。
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