高功率磁控溅射AZ31/Ti-Si-N涂层结构及表面硬度研究

作者：吴明忠; 张德秋; 王龙权; 李慕勤; 刘冬梅

来源：中国体视学与图像分析, 2012, (01): 50-54.

DOI：10.13505/j.1007-1482.2012.01.005

• 镁合金
• 高功率磁控溅射
• 氮气流量
• 超硬膜 magnesium alloy
• high power pulsed magnetron sputtering
• nitrogen gas flow
• superhard film

利用高功率磁控溅射(HPPMS)技术在无偏压及室温条件下,采用(Ti,Si10at%)靶在AZ31镁合金基体上制备了Ti-Si-N涂层,在基体与涂层之间插入Ti-Si及TiN层分别作为过渡层及缓冲层,对不同氮气流量下制备的涂层显微结构及纳米硬度进行了研究。实验表明:在AZ31软基体上可制备超硬度Ti-Si-N涂层,随着氮气流量增加膜中N含量增高,涂层颗粒尺寸远小于DCMS电源模式,当氩气氮气流量比为11∶5时TiN(200)出现择优取向,纳米压痕最大硬度值达48 GPa,远高于DCMS涂层硬度(33 GPa)。

• 单位
  先进焊接与连接国家重点实验室; 佳木斯大学; 哈尔滨工业大学