前驱体通气时间对原子层沉积氧化锌薄膜的影响

作者：马铭辰; 王国政^*; 王蓟

来源：微纳电子技术, 2022, 59(03): 231-241.

DOI：10.13250/j.cnki.wndz.2022.03.005

• 原子层沉积(ALD)
• 流体分析
• ZnO薄膜
• 表面粗糙度
• 薄膜均匀性

建立了反应腔室模型，模拟分析了原子层沉积(ALD)过程中前驱体质量分数随其通气时间的变化趋势。采用ALD法制备了ZnO薄膜，采用原子力显微镜(AFM)与扫描电子显微镜(SEM)对薄膜进行了表征，研究了不同二乙基锌通气时间下ZnO薄膜的表面形貌和厚度均匀性。模拟结果表明，前驱体通气时间越长，前驱体在整个反应腔室内的分布越均匀。在通气时间为300 ms时，二乙基锌可以均匀地分布在反应腔室内。实验以及测试结果表明，沉积温度为200℃时，随着二乙基锌通气时间的增加，薄膜的粗糙度呈现下降的趋势。在二乙基锌通气时间为300 ms时，样品粗糙度为3.52 nm。此外，随前驱体通气时间的增加，薄膜厚度也会有所增加，生长的薄膜也更加致密、均匀。

• 单位
  物理学院; 长春理工大学