氮流量比对磁控溅射(CoCrFeNi)Nx高熵合金薄膜的组织和性能的影响

作者：刘晓东; 谈淑咏; 霍文燚; 张旭海; 邵起越; 方峰^*

来源：材料研究学报, 2019, 33(03): 185-190.

• 材料表面与界面
• 磁控溅射
• (CoCrFeNi)Nx
• 硬度
• 电阻率
• 磁性能

采用直流磁控溅射法制备(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜,研究了氮流量比对薄膜的力学性能和电磁性能的影响。结果表明,在不同氮流量比条件下制备的(CoCrFeNi)Nx薄膜,都具有致密的组织、简单的FCC结构并呈现(200)择优取向。随着氮流量比从10%提高到30%,薄膜的硬度和弹性模量随之增大,其最大值达到14 GPa和212 GPa;电阻率基本上呈增大的趋势,最大值达到138μΩ?cm;饱和磁化强度和磁导率随之减小,薄膜饱和磁化强度最高为427.43 emu/cm3。薄膜的矫顽力约为0。

• 单位
  东南大学; 南京工程学院