摘要
本发明公开了一种用于MOCVD设备的旋转装置,包括:主轴(1),该主轴安装在下法兰上并通过磁流体封板(2)与下法兰密封,将反应室内部与外界完全隔开,所述的旋转主轴(1)通过磁流体密封装置(3)与马达(4)连接。所述主轴(1)的上端面沿轴向方向同轴心设有一个通孔,该通孔一直延伸至下法兰端面,且旋转主轴上端面沿径向设有梅花状分布的小孔,这些小孔与轴向的通孔连通,所述的下法兰上设有一氮气进气入口(5),该氮气入口与主轴轴向通孔的底部连通。本发明反应室密封性能好,旋转主轴不易发生热变形现象,载片盘的动平衡稳定。
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