钛合金基体上TiAlN膜层的退除工艺

作者：付新广^*; 王战东; 王彦峰; 王毅飞

来源：材料保护, 2018, 51(07): 72-75.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2018.07.016

• 退膜液
• TiAlN膜
• 钛合金

目前鲜见钛合金基体上TiAlN膜层退除工艺的研究报道。利用电弧离子镀技术并使用Ti-Al(原子比1∶1)合金靶在钛合金TC4基体上镀覆TiAlN膜层。使用亚硝酸盐、氢氧化钠配制退膜液,采用正交试验优选了退膜液各成分的浓度和退膜温度,确定了退膜液各成分的浓度及最佳退膜工艺,并比较了钛合金TC4基体及退膜后基体的表面形貌、成分、粗糙度、尺寸和结合力的变化。结果表明:以优选工艺退膜后基体表面光亮如初,形貌、成分、粗糙度变化不大,表面会产生1μm左右的轻微腐蚀,结合力略有提高。该退膜液成分简单、易于控制,适用于批量生产。

• 单位
  西北有色金属研究院; 陕西宝成航空仪表有限责任公司