101.6 mm(4英寸)0.7μm InP HBT工艺及其应用

作者:戴鹏飞*; 李征; 戴姜平; 常龙; 姚靖懿; 程伟; 任春江
来源:固体电子学研究与进展, 2019, 39(04): 301-305.
DOI:10.19623/j.cnki.rpsse.2019.04.014

摘要

报道了采用多层布线的101.6 mm(4英寸)0.7μm InP HBT圆片工艺。器件工艺中台面均采用湿法腐蚀工艺,结合自对准光刻和BCB互联平坦化工艺,并集成了金属薄膜电阻和MIM电容。研制得到的0.7μm InP HBT器件电流增益截止频率(fT)为330 GHz,最大振荡频率(fmax)为300 GHz,可满足100 GHz以下各频段的混频、倍频、放大等微波集成电路以及20 GHz以下数模混合集成电路的设计需求。

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