电子束气相沉积的研究进展

作者：赖奇; 李俊翰; 吴恩辉; 崔晏; 李亮; 廖先杰

来源：钢铁钒钛, 2020, 41(04): 76-81.

• 电子束气相沉积
• 镀膜
• 真空

介绍了电子束真空气相沉积(EBPVD)镀膜技术的优点、国内外发展现状,并对其关键技术:材料的高速电子束蒸发过程在真空和工艺参数控制下的物质的沉积、成分和组织结构的控制等方面进行了分析。简要论述了其硬件条件,以便为钢钛复合材料的制备提供解决思路。

• 单位
  攀枝花学院