半导体制造过程R2R控制方法研究进展

作者：王亮; 胡静涛; 王志艳

来源：现代制造工程, 2013, (03): 4-10+99.

DOI：10.16731/j.cnki.1671-3133.2013.03.013

• 半导体制造
• 过程控制
• R2R控制方法
• 指数加权移动平均
• 预测控制 semiconductor manufacturing
• process control
• Run-to-Run control methods
• exponentially weighted moving average
• predictive control

随着半导体器件关键尺寸的不断减小、集成度的不断提高和晶圆直径的不断增大,半导体制造过程变得越来越复杂,对半导体制造装备及其自动化水平要求越来越高。半导体制造过程Run-to-Run(R2R)控制器的性能直接决定半导体产品的良率、再工次数和产能,所以对半导体制造过程R2R控制方法的研究具有重要的意义。首先对半导体制造的主要过程和R2R控制方法的原理进行介绍,然后对各种主要的R2R控制方法进行综述和分析,最后对R2R控制方法未来的研究方向进行探讨。

• 单位
  中国科学院; 中国科学院沈阳自动化研究所; 沈阳化工大学