垂直平板电极电化学除垢的气-液流动研究

作者:喻九阳; 陈琦; 林纬*; 汪威; 王众浩; 夏文凤
来源:武汉工程大学学报, 2020, 42(03): 338-344.
DOI:10.19843/j.cnki.cn42-1779/tq.201910033

摘要

为研究电化学除垢方法中垂直平板电极反应器的气-液流动特性及其对除垢的影响规律,利用粒子图像测速技术分别研究了电解电压和溶液硬度的变化对垂直平板电极间流场的影响。实验结果表明:垂直平板电极间的流动主要分为气泡上浮推动溶液流动形成的气泡驱动对流和电极周围的高空隙率引起溶液向电极流动的自然对流。在0~30 V的电压下产生的气泡驱动对流的速度不超过0.01 m/s,自然对流的最大速度不超过0.001 5 m/s。流场内溶液对流主要受气泡运动的影响,适当增大电极板产生的气泡量可以强化气泡驱动对流,但过量的气泡聚集在极板周围会减弱气泡驱动对流强度,增大溶液电阻,不利于污垢从溶液中分离。这对于探索反应器中的气-液两相流行为以及优化电化学除垢方法有重要意义。