先进电子铝箔微观腐蚀形貌的对比分析

作者：董晓红^*; 张丽; 黄勇; 代丹丹; 武玉柱

来源：电子元件与材料, 2022, 41(08): 842-847.

DOI：10.14106/j.cnki.1001-2028.2022.0253

• 铝电解电容器
• 高压腐蚀箔
• 图像分析
• 微观形貌

针对国产高压腐蚀箔容量偏低、一致性差以及各项性能参数离散性大等问题，开展了先进电子铝箔微观腐蚀形貌的对比研究。首先通过电解抛光处理，使高压腐蚀箔显示出真实有效的腐蚀形貌。其次借助计算机图像模拟分析程序，对国内外不同厂家高压腐蚀箔形貌的扫描电子显微镜(SEM)照片进行测试分析，得到相应的腐蚀蚀孔特征参数数据库。通过参数对比可以得到B样品(日本KDK公司生产)的综合性能最佳：隧道孔深50μm,发孔密度较小，单孔平均尺寸1.17μm,折弯55次，520 V化成电压下阳极箔比容量最高达到0.877μF/cm2。本文通过对比不同厂家高压腐蚀箔的微观形貌，找出形貌特征参数与性能之间的关系，为深入研究高性能铝箔蚀孔生长控制技术提供了参考依据。

• 单位
  机电工程学院; 新疆工程学院