锐钛矿型二氧化钛薄膜制备及其光催化性能研究

作者：赵琳; 邱家稳; 何延春; 王洁冰; 许旻; 赵印中

来源：真空与低温, 2005, (02): 78-82.

• 磁控溅射
• TiO_2
• 薄膜
• 退火
• 光催化 maganetron sputtering
• TiO_2
• thin films
• anneal
• photocatalysis activity

在室温下采用直流磁控反应溅射法制备纳米TiO2薄膜,用XRD、XPS等手段对未退火及不同退火温度处理的薄膜进行了研究,以紫外灯为光源对亚甲基兰进行了光催化降解试验。结果表明:室温制备未退火的薄膜为非晶结构,400～500℃退火的薄膜为锐钛矿相结构。制备的锐钛矿型TiO2薄膜具有一定的光催化性能,在500℃退火2h且厚度较大的薄膜光催化性能较好。