继承者个人特征与家族企业研发投入——以企业两权偏离度为调节

作者：姜涛; 牛小永; 曹冬雪

来源：科学管理研究, 2019, 37(05): 98-103.

DOI：10.19445/j.cnki.15-1103/g3.2019.05.016

• 家族企业
• 继承者个人特征
• 研发投入
• 两权偏离度

以2007～2016年沪深两市A股制造行业家族上市公司为样本,研究了继承者的个人特征对家族企业研发投入的影响以及两权偏离度对二者关系的调节作用,研究发现:①继承人海外经历、任职时间均对家族企业研发投入有正向影响;②两权偏离度对继承人受教育水平、任职时间与家族企业研发投入之间的关系具有正向调节效应,即两权偏离程度越高,继承人受教育水平和任职时间对家族企业研发投入的作用越强。我们的研究结论对于家族企业继承人有效发挥个人特征、家族企业合理调整治理结构,以促进企业创新转型具有一定的指导意义。

• 单位
  经济管理学院; 内蒙古大学