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摘要
利用自主研发的线性微波化学气相沉积系统在不同微波功率、微波占空比、基片温度、特气比例条件下制备了SiNx薄膜.通过扫描电子显微镜、椭圆偏振仪等表征测量技术,研究了不同工艺参数对SiNx薄膜表面形貌、元素配比、折射率、沉积速度的影响,并探讨了薄膜元素配比、折射率、沉积速度间的关系.结果表明:利用线性微波沉积技术,不同工艺参数下制备的SiNx薄膜组成元素分布均匀,同时具有平整的表面状态;特气比例和微波占空比是影响薄膜折射率的最主要因素,薄膜折射率在1.92—2.33之间连续可调;微波功率、微波占空比、沉积温度、特气比例都对SiNx薄膜沉积速度影响较大,制备的SiNx薄膜最大沉积速度为135 nm·min-1.
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单位东北大学; 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司; 自动化学院
