电化学氟化提高TiO2薄膜光电催化性能

作者：李想^*; **; 杨波; 吴雅琴

来源：高校化学工程学报, 2020, 34(03): 710-717.

DOI：10.3969/j.issn.1003-9015.2020.03.020

• 氟化TiO2
• 薄膜电极
• 光电催化性能
• As(Ⅲ)氧化
• 苯酚降解

为了提高二氧化钛(TiO2)薄膜光电性能,采用电化学氟化制备氟化二氧化钛薄膜(F-TiO2),优化电压、时间、氟离子浓度对F-TiO2光电性能的影响,考察F-TiO2薄膜光电催化As(Ⅲ)和苯酚的性能,并测试F-TiO2薄膜光吸收性质,F-TiO2在400℃焙烧后光电流以及TiO2薄膜电极在含氟水溶液中光电流,分析F-TiO2光电催化性能提高的原因。结果表明:最佳氟化条件为10 V、5 min、0.5%NaF;在0.8 V,N2条件下,F-TiO2稳态光电流提高约2.6倍;在0.8V,空气条件下,光电催化As(Ⅲ)和苯酚速率提高2.0倍左右。电化学表面氟化形成化学键氟可能是提高TiO2光电催化性能的主要因素。

• 单位
  杭州水处理技术研究开发中心有限公司; 浙江大学; 生物工程学院