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摘要
炉管设备是目前半导体扩散、氧化、退火等工艺的主要设备，其温度控制的精度、温度场的均匀性等是设备的关键性能指标。为了满足炉管设备对温度控制的要求，设计了多段独立控制的加热系统，并采用串级控温方式对炉体内温进行精准控制；通过在调节PID参数进行动态调整，提升内温的动态跟随性能；通过在调节SP上限进行动态调整，达到了不过冲的性能；开发了设备控制软件并对温度控制性能进行了测试。结果表明，该温度控制系统可以满足快速升温、温度不过冲、温度控制的精度、恒温区均匀性以及动态跟随性能等均符合工艺技术要求，已在炉管设备上成功应用。
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