金刚石自支撑膜衬底制备AlN薄膜的性能

作者：张营营; 李成明; 陈良贤; 刘金龙; 黑立富; 吕反修

来源：材料热处理学报, 2011, (08): 1-5.

DOI：10.13289/j.issn.1009-6264.2011.08.001

• 射频磁控反应溅射
• 金刚石自支撑膜
• AlN
• 增透性 RF reactive magnetron sputtering
• diamond film
• AlN
• antireflective effect

采用射频磁控反应溅射法在金刚石自支撑膜衬底上沉积了AlN薄膜,XRD结果表明得到了(002)面择优取向的AlN薄膜;AFM的表面形貌结果显示薄膜表面平整,晶粒均匀,表面粗糙度为2.97 nm。XPS分析结果表明,离子剥蚀2.1 nm后Al/N原子百分比接近于1∶1;结合红外透过曲线和纳米力学探针测试,表明AlN薄膜在1500～800 cm-1波段对金刚石膜有约14%的增透作用,其平均硬度为21.5 GPa,平均弹性模量为233.3 GPa。

• 单位
  北京科技大学