氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响

作者：郭帅东; 王广欣^*; 李浩翔; 孙浩亮; 逯峙; 唐坤

来源：河南科技大学学报(自然科学版), 2020, 41(04): 7-5.

DOI：10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2020.04.002

• 磁控溅射
• 扩散阻挡层
• Ta-Ru-N
• 方块电阻

采用反应磁控溅射技术,在单晶Si(100)面基底上制备了4个氮分压条件下Ta-Ru-N扩散阻挡层薄膜。通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)以及四探针电阻测试仪(FPP),对所制备薄膜的相结构、表面形貌和电学性能进行了表征,研究了氮分压对薄膜微观组织和性能的影响。研究结果表明:制备的Ta-Ru-N薄膜为非晶态,适量氮气的加入能够提高薄膜表面的平整度,薄膜方阻随着氮分压的增加而逐渐增加。

• 单位
  广西大学; 河南科技大学