脑结构形态学改变是精神分裂症的遗传内表型

作者：黄朝华; 邓伟; 陈壮飞; 李名立; 吕粟; 蒋莉君; 崔立谦; 王强; 马小红; 刘协和; 龚启勇; 李涛

来源：中华医学遗传学杂志, 2009, 26(5): 490-494.

DOI：10.3760/cma.j.issn.1003-9406.2009.05.002

• 精神分裂症
• 同胞
• 磁共振成像
• 脑结构形态学改变
• 遗传内表型

目的 通过对首发精神分裂症患者及其未患病同胞的磁共振成像脑结构分析,探讨遗传因素对脑结构改变的影响程度,为发现精神分裂症的遗传内表型提供实验依据.方法 采用优化的基于体素的形态学研究方法对15例首发精神分裂症患者、19名首发精神分裂症患者未患病同胞及38名正常对照的大脑磁共振图像进行处理,采用一般线性模型进行统计分析.结果 与正常对照组相比,患者组在双侧颢叶、双侧枕叶、左侧岛叶、左侧额叶额上回及

• 单位
  生物治疗国家重点实验室; 四川大学华西医院